檢索結果：共5筆資料 檢索策略： "neural network".ekeyword (精準) and cadvisor.raw="郭鴻飛"
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積體電路的飛速發展有賴於其中的關鍵製程微影技術不斷提高的工藝水平，而對準誤差(Overlay)作爲微影製程的重要指標因素，成爲需要不斷精進的控制對象，同時也需要做到愈發追求極緻的精準量測。目前，基於…
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以光點陣列掃描 (Point Array Scanning) 成像的數位微影系統，使用數位微反射鏡裝置(Digital Micromirror Device, DMD)作為產生光點陣列的元件，透過控…
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現今印刷電路板(Printed Circuit Board, PCB)產業蓬勃發展，生產逐漸精密化且線寬越來越小，為了提升印刷電路板製程的品質，必須要進行有效率的檢測。傳統是以人工目視辨別印刷電路板…
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微影製程是半導體產業不斷前進的重要技術，透過將微縮線路用光學投影在晶圓上，將特徵尺寸不斷縮小，而數位微影製程捨棄了對光罩的使用，能透過如數位微反射鏡(Digital Micromirror Devi…
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在半導體的先進製程中，對準誤差量測技術(Overlay Metrology)為關鍵的製程步驟，準確地測量出積體電路層與層之間的對準誤差(Overlay)，可以有效減少製程的重工率進而降低製程成本。D…